一、设备介绍

本设备主要针对金属化合物、陶瓷、无机化合物、纳米材料等在真空或保护气氛的条件下进行加压加热烧结处理，以便获得高致密度的产品，例如生产高精度氮化硅陶瓷轴承等。

二、设备优点

1、形式多样，有四柱式和双立柱式结构；有上出料、下出料、侧开门出料等多种出料形式；加压方式有上加压、下加压或双向加压形式；框架采用浇铸成型或型材焊接方式，整体加工，保证设备的强度可靠性；

2、加热形式多元化，使用钨钼、石墨、电阻丝等多种发热体，可选择圆周加热或压头加热或其它形式，可根据不同的使用温度范围选择发热体，根据不同的样品形式选择加热形式，选择范围广，温度控制区间大；

3、根据不同的发热体及加热形式选择更加合理的保温材料及结构，保温性能更佳，即使在很高的温度下也能有效隔绝热量，节约能耗；

4、多元化真空系统配置，根据工艺需求选择不同等级的真空系统；

5、设有充放气系统，结合真空系统可快速完成腔体内部环境的置换，量身定做的真空/气氛环境，保障样品更好的完成烧结、加压功能；

6、人性化配置，可实现手动操作与智能操作的多元选择；

7、一炉多用，可作为单纯的真空或气氛烧结炉使用；

8、本产品接受非标定制。

三、设备参数